ICC訊 7月12日消息，新思科技(Synopsys)近日宣布，其Fusion Design Platform?已支持三星晶圓廠實現一款先進高性能多子系統片上系統(SoC)一次性成功流片，驗證了下一代3納米(nm)環繞式柵極(GAA)工藝技術在功耗、性能和面積(PPA)方面的優勢。此次流片成功是新思科技和三星之間廣泛合作的成果，旨在加快提供高度優化的參考方法學，實現全新3D晶體管架構所固有的卓越功耗和性能。

  新思科技提供的參考流程全面部署了其高度集成的Fusion Design Platform，包括業界唯一高度集成的、基于金牌簽核引擎的RTL到GDSII設計流程，以及最受業界信賴的金牌簽核產品。采用三星最新3nm GAA工藝的客戶，可在高性能計算(HPC)、5G、移動應用和人工智能 (AI) 應用領域, 為下一代設計實現理想PPA目標。

  三星晶圓設計技術團隊副總裁Sangyun Kim表示：“三星晶圓是推動下一階段行業創新的核心，我們基于工藝技術的持續演進，來滿足專業和廣泛市場應用日益增長的需求。我們全新的先進3納米GAA工藝得益于我們與新思科技的廣泛合作，Fusion Design Platform讓我們加速實現3納米工藝的前景，這也充分彰顯了與行業領先者合作的重要性和優勢。"

  根據摩爾定律，晶體管尺寸要進一步縮小，而GAA架構為更高的晶體管密度提供了經過流片驗證的途徑。GAA架構改進了靜電特性，從而可提高了性能并降低了功耗，并帶來了基于納米片寬度這一工藝矢量的全新優化機會。這種額外的自由度與成熟的電壓閾值調諧相結合，擴大了優化解決方案的空間，從而更精細化地控制總體目標設計PPA指標的實現。新思科技和三星開展密切合作，加速這一變革性技術的可用性并進一步提高效能，從而在新思科技的Fusion Compiler和IC CompilerII中實現了全流程、高收斂度優化。

  不斷優化的新思科技Fusion Design Platform為應對來自先進節點的各種挑戰提供了完美的解決方案，這些挑戰包括復雜的庫單元擺放和布局規劃規則、新的布線規則和更加明顯的工藝變化。基于單一數據模型以及共享通用優化架構，Fusion Design Platform平臺可確保單點技術更新也能夠幫助設計的優化收斂、盡可能消除系統裕度，以實現更快的收斂周期。

  新思科技數字設計事業部總經理Shankar Krishnamoorthy表示：“GAA晶體管結構是工藝技術進步的關鍵轉折點，對于延續工藝進步趨勢至關重要，為下一波超大規模創新提供保障。我們與三星晶圓的戰略合作，旨在共同提供一流的技術和解決方案，確保工藝進步趨勢的延續，為更廣泛的半導體行業帶來全新機會。"

  關于3納米GAA工藝的新思科技技術文檔可通過三星晶圓獲取。新思科技Fusion Design Platform中經過驗證的關鍵產品包括：

  數字設計

  *Fusion Compiler是業界唯一的RTL到GDSII產品

  *IC Compiler II布局布線解決方案

  *Design Compiler® RTL綜合解決方案

  簽核

  *PrimeTime®業界金牌標準時序簽核解決方案

  *StarRC?寄生參數提取-簽核解決方案

  *IC Validator物理簽核解決方案

  *SiliconSmart®庫特性描述解決方案